Ionstrålepoleringsmaskin för safir SiC Si

Kort beskrivning:

Ion Beam Figuring and Poling Machine är baserad på principen omjonförstoftningInuti en högvakuumkammare genererar en jonkälla plasma, som accelereras till en högenergisk jonstråle. Denna stråle bombarderar ytan på den optiska komponenten och avlägsnar material på atomär skala för att uppnå ultraprecis ytkorrigering och ytbehandling.


Drag

Produktöversikt över jonstrålepoleringsmaskin

Jonstrålefigurerings- och poleringsmaskinen är baserad på principen om jonsputtring. Inuti en högvakuumkammare genererar en jonkälla plasma, som accelereras till en högenergisk jonstråle. Denna stråle bombarderar ytan på den optiska komponenten och avlägsnar material på atomär skala för att uppnå ultraprecis ytkorrigering och ytbehandling.

Som en beröringsfri process eliminerar jonstrålepolering mekanisk stress och undviker skador under ytan, vilket gör den idealisk för tillverkning av högprecisionsoptik som används inom astronomi, flyg- och rymdteknik, halvledare och avancerade forskningsapplikationer.

Arbetsprincip för jonstrålepoleringsmaskin

Jongenerering
Inert gas (t.ex. argon) förs in i vakuumkammaren och joniseras genom en elektrisk urladdning för att bilda plasma.

Acceleration och strålbildning
Jonerna accelereras till flera hundra eller tusen elektronvolt (eV) och formas till en stabil, fokuserad strålfläck.

Materialborttagning
Jonstrålen sputterar fysiskt atomer från ytan utan att initiera kemiska reaktioner.

Feldetektering och vägplanering
Ytfiguravvikelser mäts med interferometri. Borttagningsfunktioner tillämpas för att bestämma uppehållstider och generera optimerade verktygsbanor.

Sluten korrigering
Iterativa cykler av bearbetning och mätning fortsätter tills RMS/PV-precisionsmålen uppnås.

Viktiga funktioner hos jonstrålepoleringsmaskinen

Universell ytkompatibilitet– Bearbetar plana, sfäriska, asfäriska och friformade ytorJonstrålepoleringsmaskin3

Ultrastabil borttagningshastighet– Möjliggör korrigering av subnanometersiffror

Skadefri bearbetning– Inga defekter eller strukturella förändringar i underlaget

Konsekvent prestanda– Fungerar lika bra på material med varierande hårdhet

Korrigering av låg/medelfrekvens– Eliminerar fel utan att generera artefakter i mellan-/högfrekventa områden

Lågt underhållskrav– Lång kontinuerlig drift med minimal driftstopp

Huvudsakliga tekniska specifikationer för jonstrålepoleringsmaskin

Punkt

Specifikation

Bearbetningsmetod Jonförstoftning i högvakuummiljö
Bearbetningstyp Beröringsfri ytbehandling och polering
Max arbetsstyckestorlek Φ4000 mm
Rörelseaxlar 3-axlig / 5-axlig
Borttagningsstabilitet ≥95%
Ytnoggrannhet PV < 10 nm; RMS ≤ 0,5 nm (typisk RMS < 1 nm; PV < 15 nm)
Frekvenskorrigeringsförmåga Tar bort fel vid låg-medelhög frekvens utan att introducera fel vid medel-/hög frekvens
Kontinuerlig drift 3–5 veckor utan dammsugning
Underhållskostnad Låg

Bearbetningskapacitet hos jonstrålepoleringsmaskin

Stödda yttyper

Enkel: Platt, sfärisk, prisma

Komplex: Symmetrisk/asymmetrisk asfär, asfär utanför axeln, cylindrisk

Special: Ultratunn optik, lamelloptik, halvsfärisk optik, konform optik, fasplattor, friformsytor

Stödda material

Optiskt glas: Kvarts, mikrokristallint, K9, etc.

Infraröda material: Kisel, germanium, etc.

Metaller: Aluminium, rostfritt stål, titanlegering etc.

Kristaller: YAG, enkristallkiselkarbid, etc.

Hårda/spröda material: Kiselkarbid, etc.

Ytkvalitet / Precision

PV < 10 nm

RMS ≤ 0,5 nm

Jonstrålepoleringsmaskin6
Jonstrålepoleringsmaskin5

Fallstudier av bearbetning av jonstrålepoleringsmaskin

Fall 1 – Standard platt spegel

Arbetsstycke: D630 mm kvartsplatt

Resultat: PV 46,4 nm; RMS 4,63 nm

 标准镜1

Fall 2 – Röntgenreflekterande spegel

Arbetsstycke: 150 × 30 mm silikonplatta

Resultat: PV 8,3 nm; RMS 0,379 nm; Lutning 0,13 µrad

x射线反射镜

 

Fall 3 – Spegel utanför axeln

Arbetsstycke: D326 mm spegel med slipad axel

Resultat: PV 35,9 nm; RMS 3,9 nm

离轴镜

Vanliga frågor om kvartsglas

Vanliga frågor – Ion Beam Polermaskin

F1: Vad är jonstrålepolering?
A1:Jonstrålepolering är en kontaktfri process som använder en fokuserad jonstråle (såsom argonjoner) för att avlägsna material från arbetsstyckets yta. Jonerna accelereras och riktas mot ytan, vilket orsakar materialborttagning på atomnivå, vilket resulterar i ultrasläta ytor. Denna process eliminerar mekanisk stress och skador under ytan, vilket gör den idealisk för precisionsoptiska komponenter.


F2: Vilka typer av ytor kan jonstrålepoleringsmaskinen bearbeta?
A2:DeIon Beam Polermaskinkan bearbeta en mängd olika ytor, inklusive enkla optiska komponenter somplattor, sfärer och prismor, såväl som komplexa geometrier somasfärer, asfärer utanför axisochfriformsytorDet är särskilt effektivt på material som optiskt glas, infraröd optik, metaller och hårda/spröda material.


F3: Vilka material kan jonstrålepoleringsmaskinen arbeta med?
A3:DeIon Beam Polermaskinkan polera en mängd olika material, inklusive:

  • Optiskt glasKvarts, mikrokristallin, K9, etc.

  • Infraröda materialKisel, germanium, etc.

  • MetallerAluminium, rostfritt stål, titanlegering etc.

  • KristallmaterialYAG, enkristallkiselkarbid, etc.

  • Andra hårda/spröda materialKiselkarbid, etc.

Om oss

XKH specialiserar sig på högteknologisk utveckling, produktion och försäljning av specialoptiska glas och nya kristallmaterial. Våra produkter används inom optisk elektronik, konsumentelektronik och militären. Vi erbjuder optiska safirkomponenter, mobiltelefonlinsskydd, keramik, LT, kiselkarbid SIC, kvarts och halvledarkristallskivor. Med skicklig expertis och den senaste utrustningen utmärker vi oss inom icke-standardiserad produktbearbetning, med målet att vara ett ledande högteknologiskt företag inom optoelektroniska material.

7b504f91-ffda-4cff-9998-3564800f63d6

  • Tidigare:
  • Nästa:

  • Skriv ditt meddelande här och skicka det till oss